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半導(dǎo)體潔凈室氣體分析監(jiān)測(cè)系統(tǒng)通過(guò)污染物源頭控制、傳播控制，實(shí)時(shí)監(jiān)控污染物濃度并結(jié)合多級(jí)過(guò)濾器以及新風(fēng)系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)，持久監(jiān)測(cè)AMC濃度，有助于掌握污染物源頭、穩(wěn)定生產(chǎn)、預(yù)防過(guò)濾器突發(fā)性壽命減少等。

煤自燃束管監(jiān)測(cè)特點(diǎn)：粉塵過(guò)濾器、單管、束管、分路箱、抽?泵、?體采樣控制柜、監(jiān)控微機(jī)、懸臂梁?克風(fēng)光聲光譜多?體分析儀、熱導(dǎo)多?體分析儀、打印輸出設(shè)備、網(wǎng)卡、系統(tǒng)軟件組成。

空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)快速監(jiān)測(cè)、報(bào)警、極低濃度測(cè)量、寬測(cè)量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應(yīng)等是半導(dǎo)體工業(yè)要求之一。深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺類(lèi)、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類(lèi)等濃度測(cè)量，當(dāng)這些氣體與化學(xué)放大光刻膠反生反應(yīng) 時(shí)，將深深的影響半導(dǎo)體器件質(zhì)量。

潔凈室環(huán)境中的空氣分子污染物AMC，內(nèi)部來(lái)自建筑材料釋出、設(shè)備和材料釋出、腐蝕和光刻等工藝過(guò)程中化學(xué)藥品逸散、人員產(chǎn)生、管路泄露、設(shè)備維護(hù)修理時(shí)散發(fā)等，外部來(lái)自環(huán)境空氣中存在的氣相污染物，以及潔凈室的廢氣排放重新送回潔凈室。

AMC監(jiān)測(cè)快速監(jiān)測(cè)、報(bào)警、極低濃度測(cè)量、寬測(cè)量區(qū)域、多氣體的高靈敏響應(yīng)等是半導(dǎo)體工業(yè)要求之一。